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首頁 > 技術(shù)文章
  • 淺析橢偏儀的成像技術(shù)原理
    2019-10-28 798
    橢偏儀的成像技術(shù)為超小塊的電影分析和原位橢圓偏振儀測量,流體環(huán)境橢偏測量分析,可以實(shí)現(xiàn)結(jié)合各種技術(shù),例如布儒斯特角鏡、表面等離子體共振、原子力顯微鏡和石英晶體微天平儀器、磅槽、反射光譜法和太赫茲光譜、拉曼光譜和更多的研究人員使用。這些新的功能,擴(kuò)展產(chǎn)品的橢偏法的應(yīng)用領(lǐng)域。橢偏光學(xué)顯微技術(shù)帶來新的研究也構(gòu)成的技術(shù),例如在非測量液膜的穩(wěn)定性和顯微成像面上的挑戰(zhàn)等。橢偏儀應(yīng)用廣泛在線監(jiān)測薄膜的厚度,對成品率無疑至關(guān)重要。然而保鮮膜在傳送帶上的速度堪比百米飛人博爾特,檢測時(shí)間又以秒計(jì)...

  • 優(yōu)尼康STM主動(dòng)式防震臺(tái)案例研究:國家納米科學(xué)中心
    2019-10-11 1713
    合作者:國家納米科學(xué)中心“振動(dòng)對STM的影響一直是我們非常頭痛的問題,使用后我們的噪音水平較被動(dòng)減震提高了兩倍。”-陳鵬程博士國家納米科學(xué)中心STM主動(dòng)式防震臺(tái)對單分子電子學(xué)研究領(lǐng)域?qū)φ駝?dòng)的要求STM就是利用針尖與樣品間施加微小電壓時(shí)隧道電流隨他們的間距變化十分靈敏,這一效應(yīng),用針尖在表面掃描,測量表面原子排列造成的微小起伏引起的隧道電流的變化,既可獲得原子級分辨率的表面結(jié)構(gòu)信息。STM探針與樣品距離只有約1nm,間距變化10-2nm則隧道電流變化約為一個(gè)數(shù)量級,極微小的振動(dòng)...

  • 臺(tái)階儀的三大顯著特點(diǎn)來了解下
    2019-9-25 772
    臺(tái)階儀屬于接觸式表面形貌測量儀器,而且它也被人們叫做臺(tái)階測量儀等等。它的結(jié)構(gòu)十分的,因?yàn)樵谒膬?nèi)部有一個(gè)功效十分強(qiáng)大的傳感器。與此同時(shí),臺(tái)階儀所具有的她點(diǎn)也比較多,主要有十分高的測量精度、測量結(jié)果也是尤其的穩(wěn)定、測量里程較大以及至關(guān)重要的可重復(fù)性等等。但是,臺(tái)階儀的性能也會(huì)隨著測頭與測頭之間的摩擦而減弱,進(jìn)而降低測量精度。那么,臺(tái)階儀的種類有哪些?接下來小編為大家娓娓道來。臺(tái)階儀也被人們叫做臺(tái)階測量儀,由于其內(nèi)部存在一個(gè)樣式不一的傳感器,因此人們對臺(tái)階儀進(jìn)行分類時(shí),也習(xí)慣利用...

  • 蔡司sigma500電鏡的隔振方案(優(yōu)尼康)
    2019-9-19 2277
    背景:使用單位:哈爾濱工業(yè)大學(xué)+材料科學(xué)研究位于前0.1%行列該研究室主要針對水處理,及水薄膜領(lǐng)域的研究儀器:ZEISSSigma-500+應(yīng)用于高品質(zhì)成像與分析的場發(fā)射掃描電子顯微鏡隔振方案供應(yīng)商:優(yōu)尼康科技有限公司+環(huán)境方案提供商+研究單位服務(wù)商+TableStable主動(dòng)隔振系統(tǒng)供應(yīng)商描述:+實(shí)驗(yàn)室的外部環(huán)境較為復(fù)雜。同樓層多個(gè)研究室并排分布,人員物品來往密集。外部10米范圍內(nèi)的泵房以及電梯井到SEM鏡筒小于5米,由于電梯井的水平面低于實(shí)驗(yàn)室的地面,且是槽式框架結(jié)構(gòu),當(dāng)...

  • 光學(xué)膜厚測量儀的原理和產(chǎn)品特性介紹
    2019-8-27 834
    光學(xué)膜厚測量儀的特點(diǎn)是非接觸,非破壞方式測量,無需樣品的前處理,軟件支持Windows操作系統(tǒng)等。光學(xué)薄膜測厚儀是使用可視光測量晶圓、玻璃等基材上形成的氧化膜,氮化膜,光致抗蝕劑等非金屬薄膜厚度的儀器。光學(xué)膜厚測量儀測量原理如下:在測量的wafer或glass上面的薄膜上垂直照射可視光,這時(shí)光的一部分在膜的表面反射,另一部分透進(jìn)薄膜,然后在膜與底層(晶圓或玻璃)之間的界面反射。這時(shí)薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光產(chǎn)生干涉現(xiàn)象。光學(xué)薄膜測厚儀就是利用這種干涉現(xiàn)象來測量薄膜厚度...

  • 半導(dǎo)體技術(shù)中的薄膜沉積
    2019-6-20 3174
    薄膜的沉積,是一連串涉及原子的吸附、吸附原子在表面的擴(kuò)散及在適當(dāng)?shù)奈恢孟戮劢Y(jié),以漸漸形成薄膜并成長的過程。薄膜的生成質(zhì)量以及膜厚檢測在半導(dǎo)體制造中有很高的重要性。半導(dǎo)體技術(shù)中薄膜的沉積方式有以下分類:化學(xué)氣相沉積(ChemicalVaporDeposition)——CVD反應(yīng)氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng),并且生成物沉積在晶片表面。物理氣相沉積(PhysicalVaporDeposition)——PVD蒸鍍(Evaporation)利用被蒸鍍物在高溫(近熔點(diǎn))時(shí),具備飽和蒸汽壓,來沉積薄膜...

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